磁流变抛光

磁流变抛光

磁流变抛光(MRF)是G&H公司为提高精密光学元件的形状光洁度而采用的一种确定性透镜表面光整工艺。这种技术使我们能够以比传统研磨更高的精度控制光学抛光。这些补充现有的抛光能力,表面校正时,需要提高精度来生产复杂的光学。

特点
MRF抛光服务 平地,球面透镜和非球面
材料 普通眼镜(肖特,Ohara霍亚苏米塔,CDGM等)熔融石英,微晶玻璃,氟化钙,硅,锗。详情请参阅资料表。
尺寸 直径可达200毫米
形图 高达?50 P V
计量学 子孔径拼接干涉仪(SSI)用于测量高数值孔径,大的透明孔径部件,透射波前测试。

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